現代真空鍍膜機膜厚的測量及監控方法
最直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅動蒸發源，通過PID控制循環驅動擋板，保持蒸發速率。只要將儀器與系統控制軟件相連接，它就可以控制整個的鍍膜過程。但是(QCM)的精確度是有限的，部分原因是由于它監控的是被鍍膜的質量而不是其光學厚度。
此外雖然QCM在較低溫度下非常穩定，但溫度較高時，它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個敏感區域，從而對膜層造成重大誤差。
光學監控是高精密鍍膜的的首選監控方式，這是因為它可以更精確地控制膜層厚度(如果運用得當)。精確度的改進源于很多因素,但最根本的原因是對光學厚度的監控。
OPTIMAL SWA-I-05單波長光學監控系統，是采用間接測控，結合汪博士開發的先進光學監控軟件，有效提高光學反應對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少終極誤差，提供了反饋或傳輸的選擇模式和大范圍的監測波長。特別適合于各種膜厚的鍍膜監控包括非規整膜監控。
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