真空鍍膜機機構性能
   
　分析現有光學真空鍍膜機比較片機構在使用過程中存在的問題。根據現代光學真空鍍膜機的發展趨勢和實際生產中急需解決的問題，通過多方面的研究分析，優化設計新一代的鍍膜機比較片結構，解決影響光學薄膜質量和超多層精密光學薄膜鍍制的問題，以提高薄膜的監控精度，實現系統的自動控制，提高光學真空鍍膜機生產效率，降低生產成本。使現代光學真空鍍膜機的結構配置及使用效果達到最佳。
　從上世紀八十年代以來，全球光電科學技術發展與進步迅猛，我國研發光學真空鍍膜機設備，在引進消化吸收的基礎上，也迅速發展起來。最近二十多年，我國逐漸成為全球光學產品的加工基地，作為光學產品的關鍵工序，也是最后一道工序-- 鍍膜，要求越來越高，真空鍍膜機性能和配置也必然要得到加強，提高設備質量、完善設備性能、提高生產效率等問題就顯現出來，這就涉及到此類設備的改造、設計研發，要求相關技術人員去解決。
　真空鍍膜機比較片機構就是該類設備的必不可少的關鍵部件，高端配置的設備對比較片機構要求越來越高，真空技術網認為它對鍍制多膜層的檢測和生產效率有著重要的不可替代的作用。下面就真空鍍膜機比較片機構在使用中的出現的問題，以及優化創新設計后的結構進行對比分析。
  1、現有真空鍍膜機比較片機構
　通用的鍍膜機比較片結構
　國內低端的真空鍍膜機，從發展之初到近10年左右，大多還沿用的該比較片結構，如圖1 所示。此比較片換位機構，通常由6 個獨立的直徑Φ22mm 的比較片組成，如圖1(b)。該機構主要由1 個托盤16、三個支撐桿110 及1 個比較片盤18 組成，如圖1(a)，三個支撐桿110 對托盤16起固定、支撐的作用，比較片盤18 靠齒輪嚙合把運動輸入使之旋轉撥片，三者配合就完成撥片換位動作。由于一般的鍍膜機真空室直徑尺寸都不大，整個機構的直徑(Φ124mm)相比較就有些偏大，導致工件盤上可裝載的鍍制工件面積比較小，并且該機構只可放置6 個比較片13，直接影響生產效率。
　該結構的特點是：結構簡單，加工制造方便，安裝實施方便易行。缺點：該結構直徑面積比較大，影響裝載工件的數量；比價片放置數量少，降低了生產效率；強度和剛度有限，又由于該結構完全暴露在真空室內，真空室內高溫濺射磨料的影響，使轉動平穩性、靈活性一般，傳動位置重復的一致性誤差較大，清洗維護頻繁。
真空鍍膜機比較片機構性能和強度的優化設計