真空電鍍設備是利用在高度真空的條件進行金屬加熱，使金屬起到融化或者蒸發的作用，并且對金屬物品中的表面形成金屬薄膜的作用。雖然真空電鍍設備的操作流程比較簡單，但是在工作中還需要遵循一定的條件和流程：
1、溫度要求：模溫在45-95攝氏度為宜(比非電鍍件高20攝氏度)。
2、采用較高的注塑溫度，這樣可以提高鍍層的附著力。
3、注塑壓力宜低，注塑速度宜慢，通常應比非電鍍件的成型速度慢一倍。
4、原材料應在80-90攝氏度下烘干4小時，否則殘留的水分將會在成型零件表面產生氣泡，流線紋而影響外觀。
5、不要使用膠模劑，否則會對鍍層的附著力產生很不利的影響，若脫模實在困難，也只能使用滑石粉或肥皂水作脫模劑。
真空蒸鍍鋁涂層在純金屬涂層的制備上，大都采用真空蒸發鍍法。而純金屬中鋁涂層，由于它用途廣泛，如制鏡工業中的以鋁代銀，集成電路中的鋁刻蝕導線；聚酸薄膜表面鍍鋁制作電容器；
滌綸聚酯薄膜鍍鋁的制作、防止紫外線照射的食品軟包裝；滌綸聚酯薄膜鍍鈷后再鍍鋁制作磁帶等。因此，今年來真空鍍鋁工業在國內外不但發展迅速，而且，正向著濺射法、離子鍍法等鍍膜技術領域發展。
真空蒸鍍鋁薄膜可選用間歇式蒸發鍍膜，也可選用半連續式真空鍍膜機。其蒸發源可為電阻源，電子束源，也可以選用感應加熱式蒸發源，可依據蒸鍍膜材的具體要求而定。
真空蒸發鍍鋁涂層的工藝參數，主要包括蒸鍍室的壓力、沉積速率、基片溫度、蒸距等。如果從膜片基體上分布的均勻性上考慮，還應注意蒸發源對基片的相對位置及工件架的運動狀態等方面因素。例如，選用電子束蒸發源進行鋁涂層制備時，其典型的主要工藝參數可選用：鍍膜室工作壓力為2.6X10-4Pa、蒸發速率為2~2.5nm/s、基片溫度20℃、蒸距450nm、電子束槍電壓為9kV，電流為0.2A。
實驗表明：電子束蒸鍍法所得到的膜厚分散度較大，即均勻性較差。這也是近年來真空鍍鋁膜有向著濺射法和離子鍍法發展制備鋁膜的趨勢原因之一。
關鍵詞：真空電鍍設備
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